HP4900 es un adsorbente especializado diseñado con una matriz polimérica porosa que contiene sitios funcionales a nanoescala. Forma selectivamente complejos estables con varias especies de silicio (e.g., siO₃², SiO₄⁴⁻) en soluciones de sulfato de níquel, logrando una materia prima de níquel de ultra alta pureza para materiales de cátodo ternario de alto rendimiento en baterías de litio.
Aprovechando la arquitectura nanoporosa y las propiedades de difusión hidrodinámica optimizadas, HP4900 proporciona cinética de adsorción rápida, remanente de sal de níquel mínimo (
Selectividad ultra alta
Adsorción preferencial de silicio sobre aniones coexistentes (p. Ej., SO₄EE.UU., Clrep) con> 10 Coeficiente de selectividad.
Eficiencia nanoestructurada
Los nanoporos (2-10 nm) permiten una transferencia de masa 3 × más rápida en comparación con los adsorbentes convencionales.
Durabilidad mecánica
Mantiene> 95% integridad del lecho después de 500 ciclos a 50 °C.
Amplia compatibilidad
Funciona eficazmente en pH 3-14 y 5-50 ° C, adecuado para sistemas concentrados de sulfato de níquel.
Purificación del cátodo de la batería de litio:
Reduce el contenido de silicio de 20 mg/L a <1 mg/L en soluciones de sulfato de níquel, mejorando la densidad de energía del material del cátodo en ≥ 15%
Tratamiento de aguas residuales industriales:
Logra el cumplimiento de la descarga de silicio <0,5 mg/L para la fabricación de productos electrónicos.
HP4900 está optimizado para:
1. Fabricación de la batería de litio
Purificación profunda de soluciones de sulfato de níquel en la producción de precursores de cátodo ternario.
2. Tratamiento de aguas
Producción de agua potable de silicio ultra bajo (<0,1 mg/L).
Procesamiento metalúrgico
Eliminación de silicio de corrientes hidrometalúrgicas de níquel/cobalto.
Parámetro | Especificación |
Apariencia | Gránulos esféricos blancos a blanquecinos |
Contenido de humedad (%) | 50,0-60,0 |
Rango de tamaño de partícula (0,3-1,10mm) (%) | ≥ 95,0 |
Densidad aparente húmeda (G/mL) | 0,75-0,85 |
Esfericidad (%) | ≥ 95,0 |
Grupos funcionales | Sitios quelantes selectivos de silicio |
Precisión Tratamiento | <1 mg/L |
Capacidad de adsorción | 1g/L (saturación) |
Rango de pH | 3,0-14,0 |
Temperatura de funcionamiento (°C) | 5-50 |
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