Purificación de gases y eliminación especial de impurezas de gases: silicio policristalino adsorbente, brillo metálico gris, soluble en una mezcla de ácido fluorhídrico y ácido nítrico, insoluble en agua, ácido nítrico y ácido clorhídrico. En condiciones de fusión a alta temperatura, tiene una reactividad química significativa y puede interactuar con casi cualquier material. Tiene propiedades semiconductoras y es un excelente material semiconductor extremadamente importante. Sin embargo, las impurezas trazas pueden afectar en gran medida su conductividad.
Ampliamente utilizado en la industria electrónica para fabricar diversos productos, se obtiene por cloración de polvo de silicio seco y gas de cloruro de hidrógeno seco bajo ciertas condiciones, seguido de condensación, destilación y reducción.
El silicio policristalino es la materia prima directa para producir silicio monocristalino y es el material de base de información electrónica para dispositivos semiconductores contemporáneos como inteligencia artificial, control automático, procesamiento de información y conversión fotoeléctrica. Se conoce como la piedra angular del edificio de microelectrónica.
En el proceso de producción, debido a la presencia de impurezas de gas, el daño a los materiales semiconductores también es significativo. Para obtener silicio policristalino de alta calidad y silicio monocristalino, el gas debe purificarse antes de su uso. Hay muchos métodos de purificación, y en la tecnología de purificación de gas, el siguiente conocimiento a menudo se aplica de manera integral.
Absorber con líquidos desecantes higroscópicos (álcali líquido, ácido sulfúrico, etc.).
Absorción química utilizando desecantes sólidos como KOH, CuSO4, CaCl2, perclorato de magnesio y absorción física utilizando gel de sílice, tamiz molecular, etc.
Uso de catalizadores para catálisis química.
Congelación a bajas temperaturas utilizando refrigerantes o refrigerantes (como nitrógeno líquido).
Hay muchos tipos de adsorbentes, y actualmente el más utilizado en la industria de semiconductores de China sigue siendo adsorbentes de éster de tamiz molecular de gel de sílice.
La reacción catalítica química se refiere al proceso en el que las impurezas nocivas presentes en un gas no se pueden eliminar del gas por medios físicos, pero se adsorben sobre la superficie del catalizador a través de la acción de un catalizador, haciendo que las impurezas reaccionen con otros componentes del gas y se transforman en compuestos inofensivos. Este método se llama catálisis química.
La purificación de gas y la eliminación especial de impurezas de gas desarrolladas por el proceso de adsorción de Haipu, utilizando productos catalíticos de adsorción desarrollados de forma independiente, pueden resolver específicamente la purificación de gas y la eliminación especial de impurezas de gas en la industria de semiconductores.
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